• 單晶金剛石熱沉片
單晶金剛石熱沉片

單晶金剛石熱沉片

1.極致均勻導熱:無晶界熱阻,熱導率穩定1800~2000W/(m·K),全域散熱一致性>99%,徹底解決晶片局部熱點;散熱能力是紫銅5倍、氮化鋁陶瓷7倍、多晶金剛石1.4倍;
2. 高頻超低損耗:絕緣介質、介電常數極低,毫米波射頻頻段信號損耗極小,適配5G/6G高頻器件,遠優於金屬類散熱基板;
3. 熱膨脹高度匹配晶片:CTE熱膨脹係數接近SiC/GaN第三代半導體晶片,高低溫迴圈下無翹曲、無應力開裂,器件使用壽命提升4倍以上;
4. 超高機械穩定性:硬度極高、抗壓強度強,耐衝擊、耐磨損,可承受大功率器件暫態熱衝擊;
5.工藝相容性強:裸片可自由二次加工,支持鐳射切割、臺階沉台、打孔開槽、圖形化金屬化,適配金絲鍵合、銀燒結、回流焊、壓接等全部封裝工藝。

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