MPCVD

是當前高純單晶金剛石、量子NV色心金剛石、光學級金剛石、半導體金剛石薄膜最核心的精密沉積生長設備。設備採用2.45GHz工業標準微波激發方式，在真空腔體內產生高密度、大體積、無電極污染的穩定等離子體，實現甲烷、氫氣等氣體的裂解與可控沉積，可精準製備超低雜質單晶金剛石基底、可控濃度NV量子色心晶體、高平整光學金剛石薄膜。
相較傳統熱CVD、直流等離子CVD設備，MPCVD具備無電極污染、等離子體均勻性高、生長應力極低、缺陷密度可控、工藝穩定性強等核心優勢，可長時間連續穩定運行，完美匹配量子金剛石、光學晶體、高功率激光晶體、半導體散熱金剛石的量產與科研定製需求，是前沿金剛石材料產業的核心裝備。