光學視窗
為單晶金剛石光學視窗與多晶CVD金剛石光學視窗兩大類，採用高純低氮CVD沉積工藝製備，經雙面光學級拋光、精密面形修正製成。具備超寬光譜透過範圍、超高鐳射損傷閾值、極高導熱、超低熱變形、耐高溫耐腐蝕、超高硬度等綜合光學與力學性能，是普通熔石英、藍寶石、硒化鋅等傳統光學窗口無法替代的極端工況光學元件。
解決傳統光學視窗高功率鐳射照射下熱畸變、透過率衰減、容易炸裂、高溫下面形失效、真空環境放氣量高等行業痛點，適用於高功率固體/光纖鐳射、紅外光學檢測、微波射頻真空腔體、高溫觀察窗口、高能輻射光學系統、半導體等離子體設備等高端場景，支援增透膜、抗反射膜、耐鐳射鍍膜定製，可加工圓形、方形、法蘭封裝一體式視窗。
光學核心參數
參數項目 Parameter | 單晶金剛石光學視窗 Single Crystal | 多晶金剛石光學視窗 Polycrystal CVD | 熔石英對照 Fused Silica |
透過光譜範圍 Transmission Range | 225nm ~ 25μm | 225nm ~ 25μm | 185nm ~ 3.5μm |
平均透過率（無鍍膜） Avg Transmission | 71%~73%（紅外波段） | 70%~72%（紅外波段） | 90%左右 |
鍍AR膜後透過率 Transmission with AR Coating | ≥98.5%（指定波長） | ≥98%（指定波長） | ≥99% |
折射率 Refractive Index@633nm | 2.41 | 2.41 | 146% |
面形精度 Surface Flatness | λ/10 @633nm | λ/4 ~ λ/8 @633nm | λ/10 |
表面粗糙度 Surface Roughness Ra | ≤0.3nm | ≤0.5nm | ≤0.5nm |
鐳射損傷閾值 LIDT@1064nm | ≥15 J/cm² (10ns) | ≥12 J/cm² (10ns) | ≤8 J/cm² (10ns) |
熱學&物理關鍵參數對比
參數項目 Parameter | 單晶金剛石光學視窗 | 多晶金剛石光學視窗 |
室溫熱導率 Thermal Conductivity | ≥2000 W/(m·K) | ≥1800 W/(m·K) |
| 熱膨脹係數 CTE@25℃ | 0.8 ppm/℃ | 1.0 ppm/℃ |
莫氏硬度 Mohs Hardness | 10（自然界最高） | 10 |
最高連續工作溫度 Max Temp | 1000℃ | 800℃ |
室溫體積電阻率 Resistivity | ≥10¹⁴ Ω·cm（絕緣） | ≥10¹⁴ Ω·cm（絕緣） |
放氣量 Outgassing | 極低，適用超高真空 | 極低，適用超高真空 |
