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是針對MPCVD生長單晶金剛石、NV色心量子金剛石、光學級激光金剛石、半導體高導熱金剛石晶片的超精密平坦化終端設備。不同於傳統機械研磨拋光,設備採用「化學軟化蝕刻+機械微量去除」複合拋光機制,利用專用金剛石CMP研磨液對晶體表面進行分子級軟化氧化,搭配超精細柔性磨盤實現均勻微量去除,徹底消除傳統研磨造成的亞表面裂紋、殘留應力、划痕與層次損傷。
設備專為量子金剛石與頂級光學金剛石定製,可實現納米級超光滑表面、零亞表面損傷、超低殘留應力、高面形精度平坦化,是量子色心性能穩定、高功率激光傳輸、半導體散熱晶片封裝的必備後製設備,完美匹配金剛石晶體從毛坯、切片到超精密成品的全流程超精拋光製程。
行業主流機型分類
| 機型檔位 Model | 科研入門型(實驗研發) | 標準工業型(主力量產) | 量子精密型(頂級定製) |
| 適用場景 | 工藝摸索、小樣研發、教學實驗、普通金剛石拋光 | 刀具級、散熱級金剛石批量超精整平、光學普通級晶體加工 | NV量子色心晶體、高功率激光晶體、頂級光學元件零損傷拋光 |
| 表面粗糙度Ra | ≤2nm | ≤1nm | ≤0.5nm |
| 均勻性指標 | WIWNU≤6% | WIWNU≤4% | WIWNU≤3% |
| 損傷等級 | 微量低損傷 | 超低損傷 | 零亞表面損傷、量子結構無衰減 |
| 自動化等級 | 半自動、手動參數調節 | 全自動、多配方存儲、自動運行 | 全自動+在線監測+工藝自動補償 |